Команда американских ученых из штата Алабама представила новую технологию, предусматривающую нанесение тонкого атомного слоя на поверхности материалов.
Для проведения эксперимента ученые создали соответствующие условия - все действия проводились при температуре, близкой к комнатной (около +20 градусов Цельсия). Чтоб совершить напыление слоя атомов, использовался метод ультразвуковой атомизации. Имеется в виду, что когда атомы будут осаждаться, параллельно с этим будет происходить испарение химикатов.
Сам ультразвуковой модификатор ученые поместили в жидкий химический прекурсор, который из-за вибрации модификатора постепенно превращался в туман. В самом тумане при специальных условиях капли жидкости размером в микрон постепенно начинали испаряться, оставляя после себя тонкий слой атомов.
