Для создания микрочипов электроники прибегли к травлению атомного слоя кремнием попеременным воздействием двух компонентов: газообразным хлором и ионами аргоновой плазмы.
Исследователи Принстонской лаборатории физики плазмы поставили перед собой задачу создать микрочипы. Для этого они прибегли к травлению атомного слоя. В ходе данного процесса удаляются отдельные атомные слои. Использовать данные процессы возможно при вытравливании в пленке на пластине из керамики непростых трехмерных структур с маленькими размерами, которые в тысячи раз тоньше волоса человека.
Для проверки созданной модели ученые провели тщательное сравнение с экспериментальными данными, которое показало их соответствие.
